涂胶显影机（SUSS)：Arm传送方式，涂胶显影盘边缘吸附，一体化为MEMS结构器件定制设备，有多种胶管支撑工艺选择。

双面曝光机(SUSS)：支持双面曝光，正面曝光对准精度1um，背面曝光对准精度1.5um，支持最小CD尺寸2um工艺。

步进光刻机(Ultatech Stepper)：
①核心光刻性能参数
光源波长：365 nm（i-line紫外光源） 
分辨率：0.5 µm（光刻胶厚度1µm条件下） 
曝光均匀性：≤±1.5%
②对准与精度系统
对准精度≤ 120 nm 
套刻精度≤ 110 nm